【UV光氧催化】廢氣處理設備+低溫等離子處理設備_VOCS廢氣處理

根據(jù)工程凈化要求并實現(xiàn)廢氣凈化目標，考慮等離子體技術和光化學氧化技術的適用范圍和運行狀態(tài)，一般以“低溫等離子體+光氧化”組合工藝為主處理系統(tǒng)，在該組合工藝前端增加旋流板塔，在末端設置噴淋洗滌塔，從而獲得適用性好、處理能力強、操作簡單的“旋流板塔+等離子體+光氧化+噴淋洗滌”系統(tǒng)處理工藝。

流程說明如下。

(1)旋流板塔。旋流板塔的主要作用是去除廢氣中的顆粒物和油性物質(zhì)，以保障后續(xù)系統(tǒng)的正常運行。根據(jù)廢氣的一般特性，污染物氧化成CO、H2o通常含有的固相顆粒物及油性狀物質(zhì)，這些物質(zhì)對等離子體裝置和光化學氧化裝置的效率和使用壽命具有影響。本項目中，為保證等離子體裝置和光化學氧化裝置的正常運行，順利實現(xiàn)廢氣的凈化，廢氣先進入位于前端的微旋流器，去除氣體中顆粒物和油性物質(zhì)。

(2)低溫等離子體裝置。經(jīng)微旋流器去除顆粒物和油性物質(zhì)后進入等離子裝置，大部分污染物受等離子體中的高能電子、自由基等活I生粒子的作用，使得污染物分子在極短的時間內(nèi)打開化學鍵，直接發(fā)生分解反應生成CO2和H2O，或從基態(tài)躍遷為活勝態(tài)隨后發(fā)生各種后續(xù)反應，污染物轉化為無害物質(zhì)或轉化為短鏈小分子有機物。生成的部分短鏈小分子有機物和部分未被等離子體凈化的污染物在催化劑上進一步反應，由污染物轉化為無害物質(zhì)隨廢氣進入光化學氧化裝置。等離子體技術與催化劑協(xié)同作用可提升等離子體裝置去除污染物的性能。

(3)光氧化裝置。收到電壓、能量利用率等因素的制約，等離子體裝置不能去除所有的污染物且部分污染物并不是完全轉化為CO和HO，而是生成短鏈小分子有機物，無法完全實現(xiàn)排放目標，故需光化學氧化裝置將短鏈小分子有機物進一步氧化為CO2和H2O，同時去除大部分未被等離子體裝置去除的臭味氣體。在光化學氧化裝置中大部分未被等離子體裝置分解的污染物和因污染物未完全分解生產(chǎn)的短鏈小分子受到紫外燈管產(chǎn)生的高能光束的轟擊和生成的臭氧的強氧化作用，生成CO2和H2O。

(4)噴淋裝置。由于光光化學氧化過程中生成了大量的O3，廢氣濃度存在波動，且為了保證凈化效果，O3的生產(chǎn)量可能會大于氧化污染的實際用量。大部分的O。在氧化有機物時被消耗，仍可能存在部分O3。在氧化有機物后隨尾氣排出，由于O3。也是一種大氣污染物，需要處理后才可排放，所以根據(jù)其微溶于水的特性，可采用噴淋裝置去除過量的O。此外，噴淋裝置還可去除廢氣在等離子體裝置中的反應產(chǎn)物，如NO3。等和未被光化學氧化的可溶于水的部分短鏈小分子有機物。噴淋產(chǎn)生的廢水進入廢水處理系統(tǒng)進行凈化處理。

(5)排氣筒。廢氣經(jīng)過旋流板塔、等離子體裝置、光化學氧化裝置和噴淋裝置等凈化裝置后達到排放要求，達標排放。

王經(jīng)理；15315235717

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